* 반도체 제조공정 핵심부품 개발을 통해 고품질 반도체기판의 생산수율 및 가격경쟁력 향상에 기여 1) WAFER 세정및 CMP 공정용 초순수 자동공급장치 개발  대주엔지니어링(주) 정휘신 대표는 64M DRAM 이상의 Device 제조공정에 적용되는 신 공정기법인 CMP(Chemical Mechanical Polishing)및 세정, 식각 장비에 DIW(deionize water, 초순수)를 일정한 압력과 유량으로 공급해주는 장비인 ‘DIW BOOSTER’를 개발·제품화함으로써 반도체 기판의 결정체 이상성장, 성장속도, 부식 및 크랙 등을 유발할 수 있는 문제를 개선시켜 생산수율 및 품질향상, 초순수 공급 장치 증설을 위한 투자효율을 증대시켰다.
2) 청정 양극화 세정장비(Ultra Pure ANODE Wet Station)개발 일선통신기기 및 휴대폰의 핵심부품으로 사용되는 고주파 수동소자의 제조에 있어서, 일반적인 실리콘 기판에 구현되는 고주파용 반도체소자는 품질계수(반도체에 있어서 다양한 기능, 크기(작을수록 우수), 생산의 용이성, 가격경쟁력의 단위를 말하며, 높을수록 우수) 가 작아 직접화하지 못하는 단점을 가지고 있어, 갈륨비소기판 및 세라믹기판을 이용하고 있다. 그러나, 갈륨비소기판은 공정상 잘 깨지며 기판가격이 높고, 세라믹기판은 이동통신 시스템의 면적을 크게 할 뿐만 아니라 수 GHz 이상의 주파수에서는 사용이 어려워, 고주파 영역에서도 안정적이며, 우수한 r.f.(radio frequency,무선주파수) 특성을 가지는 두꺼운 실리콘산화막기판이 개발되었으나, 전 세계적으로 양산화 할 수 있는 장비가 없어 제조에 많은 어려움을 겪고 있다. 이에 화공약품 사용을 최소화하고 작업자의 안전을 보장할 수 있으며, 저비용으로 우수한 실리콘산화막기판을 만들 수 있는 ‘양극화 반응 청정 양산장비(UP ANODE Wet Station)’를 개발·적용시킴으로써 시장경쟁력을 높여 수출증대에 기여할 것으로 기대된다. 3) NANO LEVEL의 입자 여과 및 불순물 정제 슬롯 꽁 머니 개발 반도체 분야의 DRAM 및 LCD. 통신소자 등의 제조공정인 확산, 식각, 증착은 고순도 GAS가 화학반응을 일으켜 박막 형성 및 미세식각을 한다. 이때 고순도 GAS에 미세입자와 불순물이 함유되어 제품의 품질 및 전기적 특성변화로 신뢰성이 저하된다. 이러한 문제를 해결하기 위해 개발된 0.003㎛2입자 여과 및 1ppb LEVEL의 불순물을 정제할 수 있는 필터인 ‘NANOPURIFIL’은 기존 수입품에 비해 불순물을 정밀하게 정제할 수 있으며, 재생이 가능하고 최적상태 유지를 위한 Heating을 할 필요가 없어 고품질의 반도체기판을 저렴하게 생산할 수 있게 하였다. | 
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